平煤神马碳化硅粉体纯度突破8N

中化新网讯 7月3日，从中国平煤神马集团传来消息，该集团旗下中宜创芯公司于近日成功将碳化硅半导体粉体纯度突破8N，最高达到8N8（99.9999998%）。“碳化硅半导体粉体纯度的提高，标志着我国在高端半导体材料领域实现重大突破，为芯片产业自主化注入强劲动力。”中国平煤神马集团中宜创芯公司董事长孙毅表示。

据介绍，碳化硅作为第三代半导体核心材料，其粉体纯度直接影响单晶生长质量和电学性能。此前，全球碳化硅粉体纯度的最高纪录8N（99.999999%），由一家国际行业巨头保持。

中宜创芯公司自2023年5月成立以来，便致力于碳化硅半导体材料的研发与生产。在此次纯度提升之前，中宜创芯的碳化硅粉体纯度已达到7N8（99.999998%）水平，吸引了30多家企业和研究机构试用和验证。

为实现纯度的再次突破，2024年12月以来，中宜创芯的技术团队引进国内行业首台新型无污染碎料装置，并采用先进的粉体合成炉和自动化无污染破碎技术，不断优化研发流程，不仅将碳化硅粉体纯度提升至8N8，还将正品率由55%增至85%，彻底攻破“卡脖子”难题。

“随着碳化硅粉体纯度成功提升，集团公司正加速推进其产业化进程。”中宜创芯技术总监杨正宏说，该公司的碳化硅半导体粉体产品具有颗粒度大、纯度高、阿尔法含量高和游离碳低等优点，特别适合8英寸碳化硅厚单晶晶锭的生长。目前，产品已得到浙江材孜、江苏超芯星、山东粤海金等国内知名企业验证使用。