中化新网讯 昭和电工株式会社1月8日宣布，为了强化电子材料用高纯度气体事业，决定在上海的生产基地-上海昭和电子化学材料有限公司的旁边取得第二工厂建设用地，建设高纯度一氧化二氮和高纯度八氟环丁烷的生产设施，以及高压气体危险品仓库。第二工厂拟于2021年下半年投产。
海第二工厂计划面积约10,000平方米，计划高纯度一氧化二氮年生产能力1,000吨，计划高纯度八氟环丁烷年生产能力600吨。
高纯度一氧化二氮主要是半导体及显示屏制造时的氧化膜的氧来源的特种气体，高纯度八氟环丁烷主要是这种氧化膜的微细加工(蚀刻)时的特种气体。由于第5代移动通信(5G)等信息通信领域的发展，以及中国政府的产业培育政策，预计今后中国的半导体及显示屏市场(有机EL电视机等)将会扩大。
目前，昭和电工在川崎事业所和韩国基地生产高纯度一氧化二氮，并在川崎事业所和上海基地生产高纯度八氟环丁烷。为了提高对日益增长市场的稳定供应能力，昭和电工正致力于进一步推进“地产地销”的政策。同时，在中国逐年加强对化学品的监管的形势下，在上海建设并完善本公司拥有的高压气体危险品仓库，对增强供应链、提高竞争力将大有帮助。
另外，由于预计台湾地区的半导体市场同样也会扩大，将新建年产150吨高纯度八氟环丁烷的生产设施(计划2020年春投产)。本次在上海和台湾的投资总额约为30亿日元。
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